Описание
BELL MOI Spitox Reboosting Deep Mask - инновационная омолаживающая маска нового поколения со спикулами, разработанная для активного восстановления кожи, повышения упругости и видимого лифтинг‑эффекта. Благодаря технологии SPITOX маска глубоко воздействует на клетки кожи, стимулируя естественные процессы регенерации и выработку коллагена.
Преимущества и действие:
• Моментальный WOW‑эффект. Уже после первого применения кожа становится более плотной, свежей и подтянутой.
• Глубокое обновление клеток. Микроскопические спикулы проникают в верхние слои кожи и доставляют активные вещества вплоть до базального слоя.
• Омоложение и лифтинг. Повышает эластичность, улучшает овал лица и выравнивает тон кожи.
• Подходит даже для чувствительной кожи. Не раздражает и не вызывает покраснений благодаря премиальным «белым» спикулам без примесей.
• Комфортное удаление. Мягкие ПАВ позволяют легко смывать маску, одновременно очищая поры и устраняя жирный блеск.
Активные компоненты:
• Премиальные очищенные спикулы - биостимуляция клеток и эффективная доставка активных веществ.
• Экстракт полыни и лекарственных трав - насыщает кожу антиоксидантами, витаминами и минералами.
• Мягкие ПАВ - бережное очищение и восстановление гидробаланса.
BELL MOI Spitox Reboosting Deep Mask - это настоящая «маска Золушки», которая мгновенно возвращает коже сияние, тонус и свежесть, сочетая WOW‑эффект и глубокое профессиональное восстановление.
Состав
Water, Sodium Cocoyl Isethionate, Lauryl Glucoside, Bentonite, Chrysanthemum Zawadskii Flower/Leaf/Stem, Camellia Sinensis Leaf Powder, Decyl Glucoside, Coco-glucoside, Artemisia Capillaris Powder, Disodium Cocoa mphodiacetate, Algin, Polyvinyl Alcohol, Fragrance, Disodium Cocoyl Glutamate, Sodium Chloride, Pectin, Hydro xyacetophenone, Sodium Polyacryloyldimethyl Taurate, Ethylhexylglycerin, Chromium Oxide Greens, Dicaprylyl Ether, Hydrolyzed Sponge, Sodium Cocoyl Glutamate, Polyglyceryl-10 Dilaurate, Citric Acid, Disodium EDTA, Hexylene Glycol, Allantoin, Propanediol, Butylene Glycol, Asiaticoside, Madecassoside, Rhodomyrtus Toment osa Fruit Extract, Madecassic Acid, Asiatic Acid, 1,2-Hexanediol, Centella Asiatica Leaf Extract, Nelumbo Nucifera Leaf Extract, Cryptomeria Japonica Leaf Extract, Saccharomyces Ferment
Применение
На очищенное сухое лицо нанесите маску, избегая области вокруг глаз и рта, немного разотрите массу, осуществляя контакт средства с кожей, затем оставьте на 10-15 мин (допускается не более 20 мин). Внимание! Интервал работы с маской для чувствительной кожи – не более 5 мин. Применение маски возможно в том числе и для очищения лица (как средство для умывания), так и как средство для лекой отшелушивающей работы на поверхности кожи (как скраб), подробности см. в фотогалерее. По прошествии времени тщательно смойте средство теплой водой. Подходит для использования для всех типов кожи, включая чувствительную.